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6月26日晚 ，半导体牛股拓荆科技（688072）公告，公司正在筹划以发行股份及支付现金的方式 ，购买无锡尚积半导体科技股份有限公司（简称“无锡尚积”）的控股权并募集配套资金 。公司股票自6月29日（星期一）开市起停牌 ，预计停牌时间不超过10个交易日 。
拓荆科技披露，公司与标的公司股东王世宽、夏小军 、上海泰纳微企业管理有限公司 、无锡芯聚管理咨询合伙企业（有限合伙）、无锡宽行企业管理有限公司 、无锡芯智管理咨询合伙企业（有限合伙）签署了《股权收购意向协议》。上述协议为交易各方就本次交易达成的初步意向，本次交易的具体方案将由交易各方另行签署正式协议予以约定 。
无锡尚积成立于2021年6月 ，注册资本2166.45万元 ，法定代表人王世宽，主营业务为半导体薄膜沉积与刻蚀设备的研发 、生产和销售 ，主要产品包括 PVD（物理气相沉积）、ETCH（刻蚀） 、CVD（化学气相沉积）等核心半导体设备 。
无锡尚积的前身为上海松尚国际贸易有限公司 ，主营设备进出口代理等业务。2021年6月，王世宽团队以“全国产化PVD设备 ”项目获无锡“太湖杯 ”创业大赛优胜奖 ，正式将核心业务落地无锡高新区 ，并成立无锡尚积 。
公司官方微信公众号显示，无锡尚积于2025年1月3日宣布更名为股份公司 。2025年10月 ，依据工业和信息化部第七批专精特新“小巨人”企业认定工作安排 ，江苏省工信厅公示入选企业名单，无锡尚积作为半导体薄膜沉积设备赛道专精企业 ，凭借自研的12英寸PVD磁控溅射 、特种PECVD设备核心技术成功入选 ，是区域集成电路装备产业链强链补链的代表性企业之一。
爱企查显示，无锡尚积目前共完成7轮融资，仅2025年即完成了B轮融资、C轮融资、Pre-IPO轮融资。其中 ，Pre-IPO轮融资金额超3亿元 ，投资方包括中车资本 、江苏战新投 、广州产投、国信弘盛 、穗开投资 、华强资本、巨石创投 、宿迁产投 、君联资本、锡创投等 。
拓荆科技是国内半导体薄膜沉积设备龙头公司 。公司主营薄膜沉积设备 、三维集成设备，目前已形成PECVD 、ALD、SACVD 、HDPCVD 、Flowable CVD等薄膜沉积设备产品 ，以及晶圆对晶圆混合键合、晶圆对晶圆熔融键合、芯片对晶圆混合键合等三维集成设备产品 ，已广泛应用于逻辑芯片 、存储芯片 、功率器件、Micro-OLED 、硅光技术 、图像传感器（CIS）等领域。
其中，在薄膜沉积设备领域 ，拓荆科技的PECVD系列设备在2025年实现了51.42亿元营收 ，同比增长75.27% 。
公开资料显示，薄膜沉积设备在前道晶圆制造设备市场中的价值量占比约为22% ，与刻蚀设备并列 ，仅次于光刻机的价值量占比 。
全球来看，逻辑芯片制程升级、存储芯片堆叠层数提升 、新工艺的应用 ，使得薄膜沉积设备 、刻蚀设备在产线中的占比及价值量逐步提升 ，全球薄膜沉积设备、刻蚀设备市场规模将保持稳定增长态势。
根据Maximize Market Research数据，全球薄膜沉积设备整体规模稳定增长，2023年市场规模为260亿美元 ，预计至2029年市场规模可达559亿美元 。在薄膜沉积设备市场中 ，PECVD份额占比达33%，而其余占比较大的设备有PVD（19%） 、ALD（11%） 、管式CVD（12%）等 。
据Mordor Intelligence数据统计 ，2024年全球半导体刻蚀设备市场规模预计为238亿美元 ，预计到2029年增长至343.2亿美元，年复合增长率为 7.60%。干法刻蚀占据了95%以上的全球市场份额 ，主要分为电容耦合等离子体刻蚀（CCP）和电感耦合等离子体刻蚀（ICP） 。
正因为市场体量巨大、稳步增长 ，薄膜沉积设备 、刻蚀设备已经成为国内头部半导体设备公司眼中的香饽饽，纷纷将业务扩展至这些领域 。
目前 ，开展薄膜沉积设备业务的设备上市公司包括拓荆科技 、北方华创、微导纳米、中微公司 、盛美上海等；开展刻蚀设备业务的上市公司包括中微公司 、北方华创、屹唐股份 、盛美上海 、至纯科技（维权）等。
由此 ，不难看出，拓荆科技收购无锡尚积至少存在两方面的意义：一是补充产品线、壮大薄膜沉积设备业务板块 ，进一步扩大市场份额；二是借此进入到刻蚀设备市场领域 ，抬高公司所在赛道市场规模的天花板 。
拓荆科技年内累计涨幅超150%，总市值达2352亿元 。最新股价报832元/股。
作者：李兴彩
